Компания ASML анонсировала новую технологию, способную значительно увеличить объёмы производства чипов. По прогнозам, к 2030 году клиенты компании смогут обрабатывать около 330 кремниевых пластин в час на каждую машину, что на 50% больше, чем текущие 220 пластин. Достичь таких показателей позволит увеличение мощности литографических машин до 1000 Вт, что превышает параметры существующего инструмента NXE:3800E более чем на половину. ASML также отмечает, что существует возможность дальнейшего роста мощности до 1500 Вт, а для достижения 2000 Вт нет препятствий. Современные EUV-сканеры генерируют излучение, воздействуя на капли олова с помощью импульсов CO₂-лазера. Для достижения 1000 Вт мощности было удвоено количество капель до 100 000 в секунду, а также введены две последовательности лазерных импульсов. Новая технология будет внедрена в машины ASML примерно в 2030 году или чуть позже.