Китайская полупроводниковая отрасль достигла значительного успеха, разработав прототип литографа для экстремального ультрафиолета (EUV). Эта технология, ранее доступная только голландской компании ASML, крайне важна для производства современных процессоров. Несмотря на усилия США по ограничению передачи технологии, китайские инженеры сделали впечатляющий прогресс. Компании, такие как SMIC, несколько лет работают над воспроизведением технологии, используя устаревшие компоненты ASML и привлекая специалистов. Ранее ASML добивалась успехов в судебных разбирательствах против китайских сотрудников, обвиняя их в краже технологий. Хотя массовое производство чипов с использованием EUV пока не начато, Китай планирует запустить его к 2030 году. Этот шаг происходит на фоне нарастающего технологического соперничества с США, особенно в сфере искусственного интеллекта. В то же время Huawei и SMIC расширяют свои производственные мощности, а литографические машины EUV представляют собой результат многолетних исследований. В Санкт-Петербургском политехе также создан первый отечественный литограф.