Китайские ученые представили новый настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) для литографии, что является значительным шагом к обеспечивает стране независимость в производстве микрочипов. Новая технология позволяет изготавливать чипы с топологией 14 нанометров. Несмотря на то, что данная разработка не способна заменить машины компании ASML, она представляет собой перспективную альтернативу для выпуска малых партий чипов. Устройство также может применяться для различных задач, таких как инспекция чипов и создание прототипов квантовых процессоров. Новый источник использует фемтосекундный лазер, который взаимодействует с газом аргон, генерируя EUV без необходимости в гигантских зеркалах. При этом потребление энергии нового устройства в 200 миллионов раз меньше, чем у ASML, что делает его более доступным для мелкосерийного производства чипов. Эксперты считают, что при дальнейшем развитии эта технология поможет повысить конкурентоспособность китайских производителей на мировом рынке.