В конце марта стало известно, что в 2026 году в нашей стране стартует разработка первого отечественного литографа, используемого для производства микросхем по технологии 90 нм. Заместитель министра промышленности России отметил, что на данный момент уже разработан 350-нм литограф, а работа над 130-нм моделью близится к завершению.
С 2022 года российская микроэлектроника активно занимается импортозамещением в области литографического оборудования. Новая 90-нм модель позволит производить различные микросхемы, включая чипы для интернета вещей и автоэлектроники. Как подчеркнул генеральный директор Зеленоградского нанотехнологического центра (ЗНТЦ) Анатолий Ковалев, их цель — освоение полного цикла фотолитографии без использования импортных компонентов.
Ранее в ряде ИТ-изданий упоминалась стоимость 350-нм литографа, которая составляет около 480 миллионов рублей. Рассматривается возможность создания более доступных литографов благодаря уже имеющимся знаниям и технологиям. Оптимистично настроенные эксперты предполагают, что к 2030 году возможен запуск серийного производства 65-нм и 28-нм литографов. Текущие шаги в разработке отечественного оборудования внушают уверенность в будущем российской микроэлектроники.