В 2026 году Россия планирует запустить разработку литографа для производства полупроводников по технологии 90 нм, о чём заявил 20 марта заместитель министра промышленности Василий Шпак на конференции радиоэлектронной отрасли. Определение исполнителя будет осуществлено по результатам конкурса, а в проекте участвует Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) совместно с белорусским предприятием «Планар», которые ранее создавали литографы на 350 нм и 130 нм.
Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв отметил, что решение об участии в конкурсе ещё не принято. К концу 2026 года центр планирует доработать степпер, обеспечивающий 130 нм. Эксперт Дмитрий Пшиченко констатировал, что создание нового литографа может занять от пяти до десяти лет и потребовать значительных вложений, однако усовершенствование уже имеющихся систем позволит сократить сроки до четырёх лет.
Проблема заключается не только в самом оборудовании, но и в создании полной экосистемы для его работы. Без необходимых компетенций и персонала гарантировать массовое производство весьма затруднительно. По сведениям экспертов, по сути, нужно лишь доработать существующее оборудование для достижения 90 нм, используя методы двукратного экспонирования. В данный момент в России также разрабатывается литограф с разрешением 130 нм стоимостью 6 миллионов долларов, который сможет обрабатывать 100-140 пластин в час.