В Зеленограде состоялась презентация первого в России оборудования, разработанного для производства микросхем с топологией 65 нм на 300 мм пластинах. Установки, созданные местными НИИМЭ и НИИТМ, предназначены для процессов плазмохимического осаждения и травления, являющихся ключевыми этапами в производстве чипов. В мире подобное оборудование выпускается всего пятью компаниями.

Проект был реализован при поддержке Минпромторга, инвестиции составили 2,5 млрд рублей. НИИ молекулярной электроники выступил главным исполнителем, обеспечив строительство чистых помещений и испытания нового оборудования.

Кластерные системы, разработанные учеными, позволят проводить до 40% всех операций по производству микросхем, повышая качество и снижая затраты. Оборудование сможет обрабатывать как 200 мм, так и 300 мм пластины, что делает его универсальным для будущих производственных процессов.

Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов отметил, что это достижение открывает новые горизонты для российской микроэлектроники. В следующем году планируется презентация оборудования в Китае, и производители надеются на спрос как на внутреннем, так и на внешнем рынках.