Японская компания Dai Nippon Printing сделала шаг вперед в области нанолитографии, что может изменить конкурентный ландшафт, доминируемый фотолитографией. По данным Nikkei Asia, на сегодняшний день нидерландская фирма ASML владеет до 90% рынка оборудования для производства микросхем, полагаясь на фотолитографию, где процесс создания чипов осуществляется с использованием мощных УФ-лазеров. Эта методика требует значительных энергетических затрат и обходится в сотни миллионов долларов за оборудование. Новая технология от Dai Nippon Printing позволяет печатать схемы на кремниевых пластинах, что раньше считалось невозможным для чипов с топологическим узлом менее 2 нанометров. Инженеры компании разработали уникальный материал, который позволяет точно формировать будущие микросхемы, а также используют оборудование от Canon для создания структур размером до 1,4 нм. В результате новая нанолитография оказывается на 90% дешевле традиционной фотолитографии. Ведущие производители, такие как Samsung Electronics и TSMC, уже проявили интерес к разработке, а Kioxia запустила тестовое производство. Если испытания будут успешными, массовое внедрение технологии может начаться в 2027–2028 годах.